高压清洗在多晶硅生产过程中
多晶硅还原炉钟罩内壁会被高温混合气体烧黑，蒸汽锅炉清洗，表面沉积一定厚度的多晶硅、无定型硅、高硅氯聚物等杂物，导致还原炉内表面粗糙不平等，影响生产、良品率低、生产成本上升、生产效率下降，所以在还原炉运行一个周期结束后，必须对还原钟罩内部进行清洗，---电子级多晶硅在高纯环境下生产。
作为一家的设备供应商，早在2009年就研发出多晶硅还原炉清洗系统，并经过对客户的实际应用和需求，充分发挥高压水清洗和吸除尘的技术优势，完成了电子级多晶硅还原炉钟罩清洗系统研发，近年来，紧跟多晶硅行业生产脚步，技术也在不断升级更新，一直保持清洗技术，为多晶硅厂商提供与电子级多晶硅生产技术并驾齐驱配套清洗解决方案，旨为电子级多晶硅的高纯度生产助力。
高压水清洗机使用与维护环节中需要注意的问题这几个方面
若想增加高压水清洗机的使用期和---其平稳性能，正确应用日常保养维护保养是很重要的。那样，高压水清洗机使用与维护环节中需要注意的问题这几个方面：
1、经过长期相关工作的高压清洗机，在关机前，好的办法是旋转减压阀，锅炉化学清洗，将压力调低，等它离心风机再运行3-6分钟再断电，充分---电源内部---量立即散发。
2、应尽量避免高压水洗机的---颤 动。
3、维持高压水清洗机清洁，不使用时一定要拔掉电源。
4、高压控制箱的通风口处不可以渗水以及其它液态。不然会对清洗设备的配电线路系统导致受到破坏。
5、高压水清洗机应尽量避免在潮湿的环境下储放，与此同时一定要让高压水清洗机避开热原。
6、高压水清洗机一般不必连续运行4个小时以上，倘若连续运行时间太长：应转动超声波调节开关至“0”位，而令散热器风扇继续上班，在高压水清洗机启动不了状态下，为高压控制箱内不断排热少则2min，才是对的作法。
7、应定期更换清洁液，充分---清理任务和实际效果。
高压水反应釜自动清洗系统
高压水反应釜自动清洗系统是将高压清洗机、三维洗罐器、现代控制系统进行集成化的系统，内蒙锅炉清洗，能够实现机械代---的反应釜自动清洗，
整个清洗过程仅需一人辅助操作，无需人工入釜，系统清洗参数可根据反应釜内部结垢情况进行调整（如：压力、定位、时间等），电厂锅炉清洗，系统作业环境不受---，可满足不同规格的反应釜清洗。
系统清洗时，由伸缩机构将三维洗罐器放入反应釜内，在三维旋转喷头与伸缩杆的复合运动下，高压水射流可以覆盖反应釜内任何位置，完成反应釜的360°无死角清洗。清洗效率是传统清洗方式的几倍甚至几十倍，并可达到90%以上的清洁率，全程在封闭式状态下作业，可有效避免清洗时废气及废液的飞溅，对周围环境及工作人员造成的影响，使得反应釜内部清洗效率、明显提高。
以上是对于反应釜内部胶状物快速清洗的方式，企业可根据自身情况选择
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